HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述

專為VUV 測量設計，整個系統處于真空狀態，無氧氣吸收。具備高度準確性；****的超快測量速度；快速樣品室抽真空能力，方便快速更換樣品；氮氣消耗量少。

重點應用領域

• 超薄膜
• 157nm 光刻新材料
• 有機材料、高分子材料
• 高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
• 抗反射涂層
• 半導體和介電材料電子躍遷
• MgF2、CaF2、LaF3

HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點

★ 50KHz 高頻PEM 相位調制技術

★ 45 秒內完成充氮氣

★ 2 分鐘內完成樣品室抽真空

★ 8 分鐘內完成光譜全譜范圍內測量

★ 兩種工作模式：氮氣清洗結合抽

★ 真空、連續氮氣清洗

★ 光譜范圍：147nm~850nm；147nm~2100nm